Szukaj "litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie"

Opracowywane w NASA sita pozwolą na badanie Słońca w niezwykle dużej rozdzielczości

6 grudnia 2023, 09:41

Sita fotonowe, nad którymi pracują naukowcy z należącego do NASA Goddard Space Flight Center, umożliwią obserwacje niezwykle małych struktur na Słońcu, które – jak uważają eksperci – podgrzewają i przyspieszają wiatr słoneczny. Nowe sita fotonowe działające w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) powinny pozwolić na zobrazowanie struktur od 10 do 50 razy mniejszych, niż te, które obecnie możemy oglądać za pomocą urządzenia EUV znajdującego się na pokładzie Solar Dynamics Observatory.

Pielgrzymka do Mekki stanie się coraz bardziej ryzykowna z powodu zmian klimatu

23 sierpnia 2019, 11:58

Jak bowiem wynika z badań przeprowadzonych przez naukowców z MIT, w wyniku zmian klimatu wilgotność i temperatura w miejscach odbywania hadżdż zmienią się tak, że przebywanie na zewnątrz stanie się „ekstremalnie niebezpieczne”.

Nadchodzi epoka EUV

25 listopada 2014, 10:55

ASML, największy na świecie producent urządzeń do wytwarzania układów scalonych, zapowiedział, że w 2016 roku rozpocznie sprzedaż maszyn do litografii w dalekim ultrafiolecie (EUV) gotowych do seryjnej produkcji układów scalonych.

Początki globalizacji

27 listopada 2011, 21:42

Globalizacja jest stosunkowo nowym pojęciem w nauce. W 1960 roku kanadyjski krytyk literacki i teoretyk komunikacji Marshall McLuhan wprowadził pojęcie globalnej wioski (global village), aby zilustrować "kurczenie się" świata w wyniku wprowadzania nowych technologii komunikacyjnych

Nowatorskie źródła światła i elektronika przyszłości dzięki połączeniu grafenu z hBN

10 czerwca 2022, 09:26

University of Michigan informuje o odkryciu, które przyspieszy prace nad elektroniką przyszłej generacji oraz nowatorskimi źródłami światła. Naukowcy z Ann Arbor opracowali pierwszą niezawodną skalowalną metodę uzyskiwania pojedynczych warstw heksagonalnego azotku boru (hBN) na grafenie. W procesie, w którym mogą powstawać duże płachty hBN, wykorzystano powszechnie stosowany proces epitaksji z wiązek molekularnych.

Samsung wydziela produkcję chipów i zdradza plany na przyszłość

25 maja 2017, 07:12

Samsung, drugi największy na świecie producent układów scalonych, nie spoczywa na laurach i walcząc o pozycję rynkowego lidera wydziela ze swoich struktur produkcję półprzewodników, a jednocześnie ogłasza swoje zamiary co do kolejnych procesów technologicznych

Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV

14 lipca 2017, 13:21

Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV

Supernowoczesne Globalfoundries

3 sierpnia 2009, 11:35

Zdaniem analityka Boba Johnsona, firma Globalfoundries, która wyłoniła się z AMD i ma zajmować się produkcją układów scalonych, już teraz należy do najnowocześniejszych przedsiębiorstw tego typu.

Problemy z EUV rozwiązane, za kilka lat powstaną 2-nanometrowe kości?

11 lipca 2019, 09:02

AMD zaprezentowało niedawno 7-nanometrowe procesory z rodziny Ryzen 3, a Samsung może w ciągu najbliższych miesięcy rozpocząć produkcję kości w technologii 5-nanometrów. Stało się to możliwe dzięki temu, że w końcu poradzono sobie z problemami trapiącymi litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV).

Litograficzne problemy

21 września 2009, 08:47

Przemysłowi półprzewodnikowemu doszedł kolejny problem związany z koniecznością przełamywania kolejnych barier w miarę zmniejszania się poszczególnych elementów umieszczanych na krzemie. Tym razem nie chodzi o kłopoty związane z właściwościami materiałów czy odpowiednimi technikami produkcyjnymi.