Szukaj "litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie"

Opracowywane w NASA sita pozwolą na badanie Słońca w niezwykle dużej rozdzielczości

6 grudnia 2023, 09:41

Sita fotonowe, nad którymi pracują naukowcy z należącego do NASA Goddard Space Flight Center, umożliwią obserwacje niezwykle małych struktur na Słońcu, które – jak uważają eksperci – podgrzewają i przyspieszają wiatr słoneczny. Nowe sita fotonowe działające w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) powinny pozwolić na zobrazowanie struktur od 10 do 50 razy mniejszych, niż te, które obecnie możemy oglądać za pomocą urządzenia EUV znajdującego się na pokładzie Solar Dynamics Observatory.

Pielgrzymka do Mekki stanie się coraz bardziej ryzykowna z powodu zmian klimatu

23 sierpnia 2019, 11:58

Jak bowiem wynika z badań przeprowadzonych przez naukowców z MIT, w wyniku zmian klimatu wilgotność i temperatura w miejscach odbywania hadżdż zmienią się tak, że przebywanie na zewnątrz stanie się „ekstremalnie niebezpieczne”.

Nadchodzi epoka EUV

25 listopada 2014, 10:55

ASML, największy na świecie producent urządzeń do wytwarzania układów scalonych, zapowiedział, że w 2016 roku rozpocznie sprzedaż maszyn do litografii w dalekim ultrafiolecie (EUV) gotowych do seryjnej produkcji układów scalonych.

Początki globalizacji

27 listopada 2011, 21:42

Globalizacja jest stosunkowo nowym pojęciem w nauce. W 1960 roku kanadyjski krytyk literacki i teoretyk komunikacji Marshall McLuhan wprowadził pojęcie globalnej wioski (global village), aby zilustrować "kurczenie się" świata w wyniku wprowadzania nowych technologii komunikacyjnych

Nowatorskie źródła światła i elektronika przyszłości dzięki połączeniu grafenu z hBN

10 czerwca 2022, 09:26

University of Michigan informuje o odkryciu, które przyspieszy prace nad elektroniką przyszłej generacji oraz nowatorskimi źródłami światła. Naukowcy z Ann Arbor opracowali pierwszą niezawodną skalowalną metodę uzyskiwania pojedynczych warstw heksagonalnego azotku boru (hBN) na grafenie. W procesie, w którym mogą powstawać duże płachty hBN, wykorzystano powszechnie stosowany proces epitaksji z wiązek molekularnych.

ASML zapowiada kolejną generację urządzeń

22 kwietnia 2013, 11:58

Holenderska firma ASML, największy na świecie producent sprzętu dla przemysłu półprzewodnikowego, zapowiedział, że do 2015 roku dostarczy prototypowe urządzenia służące do pracy z 450-milimetrowymi plastrami krzemowymi w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i litografii zanurzeniowej.. Firma ogłosiła też, że jej partnerzy - Intel, Samsung i TSMC - rozpoczną w 2018 roku masową produkcję za pomocą tego typu urządzeń.

EUV coraz bliżej

4 marca 2016, 07:22

W końcu jasna przyszłość rysuje się przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Producenci układów scalonych z niecierpliwością czekają na tę technologię, gdyż pozwala ona na naświetlenie plastra krzemowego w jednym przebiegu

Samsung kupi urządzenia do EUV

9 maja 2016, 10:00

Samsung Electronics chce wykorzystywać litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) w swoim procesie produkcyjnym. Firma ma zamiar konkurować z takimi gigantami jak TSMC. Dlatego też koreański koncern kupić urządzenia NXE3400 holenderskiej ASML

Samsung wydziela produkcję chipów i zdradza plany na przyszłość

25 maja 2017, 07:12

Samsung, drugi największy na świecie producent układów scalonych, nie spoczywa na laurach i walcząc o pozycję rynkowego lidera wydziela ze swoich struktur produkcję półprzewodników, a jednocześnie ogłasza swoje zamiary co do kolejnych procesów technologicznych

Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV

14 lipca 2017, 13:21

Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV