Opracowywane w NASA sita pozwolą na badanie Słońca w niezwykle dużej rozdzielczości
6 grudnia 2023, 09:41Sita fotonowe, nad którymi pracują naukowcy z należącego do NASA Goddard Space Flight Center, umożliwią obserwacje niezwykle małych struktur na Słońcu, które – jak uważają eksperci – podgrzewają i przyspieszają wiatr słoneczny. Nowe sita fotonowe działające w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) powinny pozwolić na zobrazowanie struktur od 10 do 50 razy mniejszych, niż te, które obecnie możemy oglądać za pomocą urządzenia EUV znajdującego się na pokładzie Solar Dynamics Observatory.
Pielgrzymka do Mekki stanie się coraz bardziej ryzykowna z powodu zmian klimatu
23 sierpnia 2019, 11:58Jak bowiem wynika z badań przeprowadzonych przez naukowców z MIT, w wyniku zmian klimatu wilgotność i temperatura w miejscach odbywania hadżdż zmienią się tak, że przebywanie na zewnątrz stanie się „ekstremalnie niebezpieczne”.
Nadchodzi epoka EUV
25 listopada 2014, 10:55ASML, największy na świecie producent urządzeń do wytwarzania układów scalonych, zapowiedział, że w 2016 roku rozpocznie sprzedaż maszyn do litografii w dalekim ultrafiolecie (EUV) gotowych do seryjnej produkcji układów scalonych.
-5deb9bd09348215c5a9f37f67b823179.jpg)
Początki globalizacji
27 listopada 2011, 21:42Globalizacja jest stosunkowo nowym pojęciem w nauce. W 1960 roku kanadyjski krytyk literacki i teoretyk komunikacji Marshall McLuhan wprowadził pojęcie globalnej wioski (global village), aby zilustrować "kurczenie się" świata w wyniku wprowadzania nowych technologii komunikacyjnych
Nowatorskie źródła światła i elektronika przyszłości dzięki połączeniu grafenu z hBN
10 czerwca 2022, 09:26University of Michigan informuje o odkryciu, które przyspieszy prace nad elektroniką przyszłej generacji oraz nowatorskimi źródłami światła. Naukowcy z Ann Arbor opracowali pierwszą niezawodną skalowalną metodę uzyskiwania pojedynczych warstw heksagonalnego azotku boru (hBN) na grafenie. W procesie, w którym mogą powstawać duże płachty hBN, wykorzystano powszechnie stosowany proces epitaksji z wiązek molekularnych.
Fabryka specjalnie dla Apple'a?
23 lipca 2012, 17:45Serwis HotHardware, powołując się na zaufane źródło, twierdzi, że TSMC rozważa budowę fabryki specjalnie dla Apple’a. Miałaby ona zostać specjalnie przystosowana do potrzeb amerykańskiego koncernu i jego planów rozwojowych.
ASML zapowiada kolejną generację urządzeń
22 kwietnia 2013, 11:58Holenderska firma ASML, największy na świecie producent sprzętu dla przemysłu półprzewodnikowego, zapowiedział, że do 2015 roku dostarczy prototypowe urządzenia służące do pracy z 450-milimetrowymi plastrami krzemowymi w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i litografii zanurzeniowej.. Firma ogłosiła też, że jej partnerzy - Intel, Samsung i TSMC - rozpoczną w 2018 roku masową produkcję za pomocą tego typu urządzeń.
EUV coraz bliżej
4 marca 2016, 07:22W końcu jasna przyszłość rysuje się przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Producenci układów scalonych z niecierpliwością czekają na tę technologię, gdyż pozwala ona na naświetlenie plastra krzemowego w jednym przebiegu
Samsung kupi urządzenia do EUV
9 maja 2016, 10:00Samsung Electronics chce wykorzystywać litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) w swoim procesie produkcyjnym. Firma ma zamiar konkurować z takimi gigantami jak TSMC. Dlatego też koreański koncern kupić urządzenia NXE3400 holenderskiej ASML
Samsung wydziela produkcję chipów i zdradza plany na przyszłość
25 maja 2017, 07:12Samsung, drugi największy na świecie producent układów scalonych, nie spoczywa na laurach i walcząc o pozycję rynkowego lidera wydziela ze swoich struktur produkcję półprzewodników, a jednocześnie ogłasza swoje zamiary co do kolejnych procesów technologicznych
« poprzednia strona następna strona » 1 2 3 4 5 6 7 8 …
